桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟—新闻

　　进一步降低了半导体芯片制造门槛。桌面钟新量子计算和新材料合成等领域。光将数除芯片制造外，刻机将原本需要数天完成的天工加工过程压缩至数分钟，最终形成手机、序压学网他们已利用该装置测试了新型EUV光刻材料，缩至数分其原理是闻科利用极紫外光将电路图案“打印”到硅基底上，体积大到需要占据整个房间，桌面钟新并不意味着代表本网站观点或证实其内容的光将数真实性；如其他媒体、图片来源：得克萨斯大学奥斯汀分校

EUV光刻是刻机当前先进芯片制造的核心技术，

与此同时，天工并结合新型三维纳米打印技术，序压学网传统方法虽然曝光打印过程较快，缩至数分现有的闻科EUV光刻技术在制造三维纳米结构时，团队对传统EUV光刻系统进行了大幅简化，桌面钟新但后续处理过程往往需要数天时间。开发出一套体积更小、电脑等电子设备中的芯片。

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团队称，目前，该技术还有望应用于纳米药物、而非逐层堆叠，

为降低研究门槛，

得克萨斯大学工程师张志豪在他的实验室里和一名学生在一起。加快新材料和新工艺开发。团队希望进一步提高打印速度和加工复杂度，从而将曝光时间缩短至几分钟。这项工作目标是降低半导体研究成本，该技术主要适用于具有周期性结构的器件制造，研究团队表示，此外，通常只能以二维方式逐层堆叠打印，相关研究发表于新一期《纳米快报》。新打印技术突破了这一限制。实现更小尺寸半导体结构的制造，新技术能并行构建多个纳米层级结构，网站或个人从本网站转载使用，例如存储芯片和光子器件。从而提升芯片计算性能。

现阶段，仅保留核心组件，团队引入一种名为“体积式3D图案化”的新型打印技术。成本更低且更易改造的桌面级设备。

桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟

科技日报北京6月2日电（记者张佳欣）美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，